宮田 俊弘 宮田 俊弘 専門分野 酸化物半導体、薄膜形成、評価、太陽電池、ディスプレイ、透明導電膜、透明ReRAM、酸化物エレクトロニクス 自己紹介 長年にわたり、酸化物エレクトロニクス、酸化物半導体薄膜形成技術、評価技術の開発に従事しております。特に、酸化物半導体を用いた太陽電池、ディスプレイ、ReRAM、透明導電膜等への応用技術の開発実績と経験が豊富です。 現在の就業状況: フリーランス 前職の所属: 金沢工業大学工学部 前職の職名: 教授 居住地: 石川県 現地での業務: 可 リモート: 可 研究分野 ナノテク・材料薄膜・成膜, 無機材料, 機能材料, 結晶工学産業・技術 ライフサイエンス 情報通信 社会基盤 その他 提供サービス 実験・研究支援(技術相談) 実験・技術補助 機器分析支援 書類等作成支援/添削 論文調査・リサーチ・データ収集 知財・特許相談 分析の場合対象サンプル 半導体薄膜材料一般 対応可能な実験・研究内容 スパッタリング成膜 MOCVD成膜 レーザーアブレーション成膜 アークプラズマ蒸着 真空蒸着 X線回折分析 XPS分析 特許・受賞歴・論文・経歴など 論文リスト 取得特許:太陽電池、ディスプレイ、透明導電膜形成技術に関する特許多数保有 受賞:応用物理学会学術論文賞、ICMCTF国際会議優秀論文賞、IDW国際会議優秀論文賞 ← 前の投稿次の投稿 →